Samsung、3nmプロセスでの半導体製造における良品率向上の為EUVペリクル導入

 
Samsung Electronicsが、3nmプロセスでの半導体製造における良品率向上を目的とし、極端紫外線（EUV：Extreme Ultra-Violet）ペリクルを導入すると発表しました。

3nmプロセスでの半導体製造でTSMCに先行したSamsung

Samsung Electronicsが導入するのは、光透過率90%以上のEUVペリクルです。
 
EUVペリクルは、露光工程におけるフォトマスクの防塵カバーとして用いられるものです。
 

 
Samsung Electronicsは、3nmプロセスでの半導体製造ラインに導入するEUVペリクルを、S&S Techから購入します。

良品率がTSMCの4分の1程度、改善急務

3nmプロセスでの半導体製造において、iPhone15 Proシリーズ用A17 Bionicを製造するとみられるTSMCは既に80%程度の良品率を実現しているのに対し、Samsung Electronicsのそれは20%程度に留まっていることで、改善が急務となっていました。
 
改善が実現されない場合、Qualcommなどの潜在顧客がSamsung ElectronicsからTSMCに流出すると懸念されています。
 
 
Source:DigiTimes,EUVペリクルとは/三井化学
Photo:Apple Cycle（@theapplecycle）/Twitter
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