Samsung、3nmプロセスでの半導体製造における良品率向上の為EUVペリクル導入

    iPhone15 Pro A17 M3 3nm_1200

    iPhone15 Pro A17 M3 3nm_1200
     
    Samsung Electronicsが、3nmプロセスでの半導体製造における良品率向上を目的とし、極端紫外線(EUV:Extreme Ultra-Violet)ペリクルを導入すると発表しました。

    3nmプロセスでの半導体製造でTSMCに先行したSamsung

    Samsung Electronicsが導入するのは、光透過率90%以上のEUVペリクルです。
     
    EUVペリクルは、露光工程におけるフォトマスクの防塵カバーとして用いられるものです。
     
    Mitsui Chemical
     
    Samsung Electronicsは、3nmプロセスでの半導体製造ラインに導入するEUVペリクルを、S&S Techから購入します。

    良品率がTSMCの4分の1程度、改善急務

    3nmプロセスでの半導体製造において、iPhone15 Proシリーズ用A17 Bionicを製造するとみられるTSMCは既に80%程度の良品率を実現しているのに対し、Samsung Electronicsのそれは20%程度に留まっていることで、改善が急務となっていました。
     
    改善が実現されない場合、Qualcommなどの潜在顧客がSamsung ElectronicsからTSMCに流出すると懸念されています。
     
     
    Source:DigiTimes,EUVペリクルとは/三井化学
    Photo:Apple Cycle(@theapplecycle)/Twitter
    (FT729)

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